{"column":{"component":"Media","content":{"media":{"src":{"mobile":"/media/n0blcuka/surface-treatment-coating-glass.jpg?width=668\u0026height=0\u0026format=webp\u0026v=1db730a6b7bbc20","tablet":"/media/n0blcuka/surface-treatment-coating-glass.jpg?width=1145\u0026height=0\u0026format=webp\u0026v=1db730a6b7bbc20","desktop":"/media/n0blcuka/surface-treatment-coating-glass.jpg?width=1642\u0026height=0\u0026format=webp\u0026v=1db730a6b7bbc20"},"alt":"Vacuum deposition by reactive sputtering for coated glass","type":"image","link":{},"width":668,"height":0},"caption":""}}}
實際應用
物理氣相沉積 (PVD) 濺鍍或反應濺鍍是一種層沉積技術，其中濺射粒子與引入濺射室的氣體發生反應。
高能量氬氣應用於金屬（鋁）等，釋放濺鍍金屬顆粒蒸氣。它們與所提供的反應氣體發生反應，從而在玻璃、矽片、金屬或聚合物上沉積非常薄的陶瓷層。反應濺鍍用於塗覆抗反射、硬化、抗磨損等。
應用需求
快速流量控制對於真空沉積技術至關重要。 。每一秒都可以節省時間和能源，進而提高沉積設備的效率。需要以可重複的方式和長期穩定性提供大動態流量範圍的氣流。所以品質還是有保證的。
重要主題
重要主題
快速響應流量控制
動態範圍大
通訊界面
製程解決方案
FLEXI-FLOW 緊湊型質量流量控制器的回應時間達到 150 毫秒，且不會過衝。這樣，我們就可以滿足真空鍍膜客戶的要求，他們需要多通道流量解決方案，提供穩定、快速的流量控制和關閉功能。
Example of process scheme with 6 Mass Flow Controllers. Shut-off valves are implemented to guaranty very low leak rate to the vacuum chamber
快速響應流量控制
真空沉積設備的最終用戶需要非常快速反應的供氣系統。他們優化壓力和氣流等製程條件，並透過在塗層過程中測量塗層厚度來監控結果。在此過程中，應該有穩定、受控的氣流，以保持塗層具有正確的厚度和成分。
當濺鍍系統觀察到厚度或透明度出現偏差時，它會透過調整氣流來糾正沉積過程。因此，需要非常快速的流量控制，反應在 150 毫秒範圍內。
關斷功能
可以整合截止閥，以最大限度地減少抽真空階段真空室的洩漏 - 特別適用於超高真空反應器。
動態範圍大
大動態流量範圍和至少1:1000的高調節比減少了所需的型號和備件數量，並提高了真空沉積設備的靈活性。
通訊界面
緊湊型多通道解決方案可透過網關選擇接口，利用乙太網路、EtherCAT 和 Profinet 等工業協定。以這種方式產生的資料可用於預測性維護。
"多虧了Bronkhorst公司的 FLEXI-FLOW Compact，我們在真空沉積設備中實現了穩定可靠的氣體流量控制，大大減少了浪費，提高了產品質量。"
推薦產品
FLEXI-FLOW Compact
氣體用多參數質量流量計/控制器
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精度 ****
內建 22 種氣體的氣體資料庫
多重控制功能
