
Adam 解釋:EL-FLOW Select
說明影片
您想瞭解更多關於此系列的來龍去脈嗎?我們的同事 Adam 會在這段影片中告訴您一切。
技術規格
流體類型
氣體
流量測量原理
Thermal
系列範圍
適用於 0.014 mln/min - 1670 ln/min
精度
±0.5% Rd 加 ±0.1%FS
重複性
<±0.2% Rd (或 <±0.04% FS,以較大者為準)
最大值。壓力 bar(g)
400
操作溫度
-10...+70°C
防護等級
IP40
EL-FLOW Select 包括金屬密封和 LOW-ΔP-FLOW
適用於乾淨氣體的實驗室型質量流量儀器。可選購適用於半導體市場和其他高純度氣體應用的金屬密封儀器。
搜尋模型
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 0.4...20 毫升n/min
10 bar(g)
最小值. 0.42...21 mln/min
max. 0.042...2.1 ln/min
10 bar(g)
min. 0.028...1.4 ln/min
max. 0.24...12 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.28...14 ln/min
max. 0.5...25 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.17...8.5 ln/min
max.1...50 ln/min
10 bar(g)
最小值. 0.8...40 ln/min
max.3...150 ln/min
10 bar(g)
最小值. 0.9...45 ln/min
max.4...200 ln/min
10 bar(g)
min. 0.014...0.7 毫升n/min
max. 0.18...9 毫升n/min
100 bar(g)
最小值 0.4...20 ln/min
max.2...100 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.16...8 毫升n/min
max. 0.16...25 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.12...6 毫升n/min
max.1...50 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.8...40 ln/min
max. 1.4...250 ln/min
100 bar(g)
最小值4...200 ln/min
max.8...1600 ln/min
100 bar(g)
最小 0.2...10 毫升n/min
max. 0.3...15 毫升n/min
200 bar(g)
最小 0.3...15 毫升n/min
max. 0.4...20 ln/min
200 bar(g)
min.0.3...15 ln/min
max.5...250 ln/min
200 bar(g)
最小值4...200 ln/min
max.25...1250 ln/min
200 bar(g)
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 0.3...15 毫升n/min
400 bar(g)
最小值 0.3...15 毫升n/min
max. 0.4...20 ln/min
400 bar(g)
最小值 0.3...15 ln/min
max.3...250 ln/min
400 bar(g)
最小值4...200 ln/min
max.25...1250 ln/min
400 bar(g)
min. 0.014...0.7 mln/min
max. 0.18...9 mln/min
64 bar(g)
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 0.4...20 毫升n/min
10 bar(g)
最小值 0.4...20 ln/min
max.2...100 ln/min
64 bar(g)
最小值 0.12...6 毫升n/min
max.1...50 ln/min
64 bar(g)
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 0.8...15 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.16...8 毫升n/min
max. 0.5...25 ln/min
64 bar(g)
最小值 0.42...21 毫升n/min
max. 0.042...2.1 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.42...21 毫升n/min
max. 0.042...2.1 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.028...1.4 ln/min
max. 0.24...12 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.028...1.4 ln/min
max. 0.24...12 ln/每分鐘
10 bar(g)
最小值 0.8...40 ln/min
max.5...250 ln/min
64 bar(g)
最小值 0.28...14 ln/min
max. 0.5...25 ln/min
10 bar(g)
最小值 0.17...8.5 ln/min
max.1...50 ln/min
10 bar(g)
最小值4...200 ln/min
max.33...1670 ln/min
64 bar(g)
min. 0.014...0.7 毫升n/min
max. 0.18...9 毫升n/min
100 bar(g)
最小值 0.4...20 ln/min
max.2...100 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.16...8 毫升n/min
max. 0.5...25 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.8...40 ln/min
max.5...250 ln/每分鐘
100 bar(g)
最小值4...200 ln/min
max.33...1670 ln/min
100 bar(g)
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 0.3...15 毫升n/min
200 bar(g)
最小值 0.3...15 毫升n/min
max. 0.4...20 ln/min
200 bar(g)
最小值 0.2...10 毫升n/min
max. 10..500毫升n/min
400 bar(g)
min. 0.01...0.5 ln/min
max. 0.2...10 ln/min
400 bar(g)
最小值 0.2...10 ln/min
max. 2...100 ln/min
400 bar(g)
下載
手冊
-
PDF
Manual EL-FLOW Select (9.17.099)
-
PDF
Manual RS232 interface (9.17.027)
-
PDF
Quick Start Guide EL-FLOW Select (9.17.176)
連接圖
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 RS232 Analog (9.16.119)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Canopen (9.16.217)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Devicenet (9.16.122 )
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Ethercat (9.16.124)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Ethernet IP (9.16.215)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 FLOW BUS (9.16.120)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Modbus (9.16.123)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 Modbus TCP (9.16.234)
-
PDF
Hook Up Diagram Laboratory Style Optional Bus And IO Configurations (9.16.118)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 POWERLINK (9.16.236)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab MBC3 PROFIBUS DP (9.16.121)
-
PDF
Hook Up Diagram Lab Mbc3c PROFINET (9.16.147)
證書
-
PDF
MTBF Statement Bronkhorst
-
PDF
EU Declaration of Conformity RoHS
小冊子
-
PDF
手冊 EL-FLOW Select
尺寸圖
-
PDF
Dimensional Drawing Adapters
-
PDF
Dimensional Drawing EL-FLOW / IN-FLOW MBC Cases
EL-FLOW Select 用於何處?

流量和壓力控制器用在化學反應器系統
如何控制化學反應釜中的壓力和流量。查看解決方案:精確的壓力控制器與質量流量控制器結合。
繼續閱讀

煉鋼過程中的瓦斯供應
在製鋼過程中,高爐利用碳在高溫下將鐵礦石轉化成粗鐵。為了去除雜質,氧氣會被吹入生鐵中,以確保一個混合良好的反應。布瑯軻鍶特公司為惰性氣體的供應提供了精確的質量流量控制器,以保持鐵水的流動和補償不同的壓力。這些控制器的緊湊設計在有限的空間內具有優勢。
繼續閱讀

用蒸發裝置為燃料電池加濕
閱讀如何使用蒸發裝置產生水蒸氣流以加濕汽車產業燃料電池的故事
繼續閱讀
电池生产中的流量控制
了解布琅轲锶特质量流量控制器在锂离子电池硅/碳阳极高效生产中的作用。
繼續閱讀

用於熱噴塗的超音波流量
超音波流量計用於提高 Flame Spray Technologies 熱噴塗設備的塗層品質。閱讀我們的客戶故事!
繼續閱讀

質量流量控制器 | 實驗室培育鑽石
我們的質量流量和壓力控制器可確保使用 CVD 技術的高品質實驗室製造鑽石的穩定條件。我們與頂尖的機器製造商合作,提供氣態反應物的精確控制,支援各種通訊協定,並提供快速回應時間,以提高生產效率。