ガス希釈システムにおける質量流量制御

不均一系触媒および固体化学の分野をリードするある研究所が、気体と液体の両方の供給源に対応可能な希釈ソリューションを求めて、ブロンコストに依頼しました。同チームは、新たに開発された吸着剤や触媒の検証を行うため、極めて低濃度のVOCを確実に生成できるシステムを必要としていました。

要求事項

有意義な触媒試験を実施するためには、実験室において、ホルムアルデヒド、トルエン、クロロベンゼン、トリクロロエチレン、ブタノールなどの化合物について、ppmからppbレベルに至る極めて低濃度の汚染物質を、正確に生成する必要があります。これらの制御された濃度は、試験の目的に応じて数時間から数週間にわたり、安定した状態を維持されなければなりません。

重要なトピック

超低濃度域において極めて高い精度を発揮する

極めて安定した繰り返し性の良い希釈性能

高い柔軟性

完全に統合されたソリューション

プロセスソリューション

ブロンコスト社は、CEM（制御蒸発・混合）技術に基づいたDILABと呼ばれる特注の希釈モジュールを提供しました。
このシステムには、以下の機能が統合されています：

正確な液体投与用のコリオリ式流量計
制御された蒸発を可能にする三方弁
システム圧力を安定させるための背圧コントローラ
正確なガス混合および希釈を行うための複数のマスフローコントローラ

DILABシステムは、液体および気体の処理を単一の制御プラットフォームに統合することで、極めて低濃度のVOCを安定かつ繰り返し性良く生成することを可能にします。このシステムは、それぞれ固有の蒸発特性を持つ様々な液体に対応できる柔軟性を備えており、ppbからppmに至る幅広いVOC濃度範囲に対応可能です。これにより、実験室ではますます厳格化する排出シミュレーション基準を満たすことが可能となります。