Bronkhorst
Chemical

Halbleiterindustrie

Ursprünglich wurden thermische Massendurchflussmesser und -regler in den 1970er Jahren für die Gasphasenabscheidung in Halbleiterfertigungsprozessen entwickelt. Indem Bronkhorst auf die Anforderungen dieses Marktes hörte und neue und bessere Produkte für die Gas-, Flüssigkeits- und Dampfabgabe einführte, wurde Bronkhorst zu einem wichtigen Lieferanten für die Halbleiterindustrie. Für die Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der Sprühbeschichtung für Flachbildschirme (FPD) und der Atomlagenabscheidung (ALD) können wir metallisch abgedichtete Durchflussinstrumente für direkte Flüssigkeitseinspritzsysteme anbieten.

Halbleiterindustrie Broschüre

Anwendungsbeispiele

  • Abscheidung von Schutzschichten auf Wafern vor dem Lasern
  • Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
  • Atomic Layer Deposition (ALD)
  • Dosierung und Regelung überkritischer Fluide (z.B. überkritische CO2-Reinigung)
  • Sprühbeschichtung von Flachbildschirmen


ANWENDUNGSBEISPIELE

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Durchflussreglung bei MOCVD-Verfahren

Die Durchflusskontrolle ist wichtig in MOCVD-Anwendungen. Erfahren Sie hier wie die Durchflussregelung unseren Kunden geholfen hat, die LED-Produktqualität zu verbessern.

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Messung und Regelung überkritischer Fluide

Es ist schwierig, Fluide wie Kohlendioxid (CO2) zu messen, wenn sie sich in der Zwischenphase zwischen einem flüssigen und gasförmigen Zustand befinden. Für diese Anwendung werden Coriolis-Massendurchflussmesser empfohlen.

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Andere Märkte

Instrumente von Bronkhorst werden für zahlreiche Anwendungen in einer Vielzahl von Märkten eingesetzt. Sie finden Einsatz in Labors, Universitäten, der Industrie, Produktions- und Pilotanlagen und sogar in Bereichen oder Anlagen, in denen Explosionsgefahr herrscht. Ein großer Teil der gefertigten Instrumente ist in Fertigungsmaschinen oder -anlagen sogenannter OEM-Kunden („Original Equipment Manufacturers“ oder Erstausrüstern) integriert.


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