{"column":{"component":"Media","content":{"media":{"src":{"mobile":"/media/rmtn4gyc/wafer-foup-load-port.jpg?width=668&height=0&format=webp&v=1db73099425d990","tablet":"/media/rmtn4gyc/wafer-foup-load-port.jpg?width=1145&height=0&format=webp&v=1db73099425d990","desktop":"/media/rmtn4gyc/wafer-foup-load-port.jpg?width=1642&height=0&format=webp&v=1db73099425d990"},"alt":"Régulation de débit dans le procédé FOUP","type":"image","link":{},"width":668,"height":0},"caption":""}}}
La fabrication de semi-conducteurs repose sur des environnements extrêmement propres afin de produire des plaquettes de silicium de haute qualité destinées à des applications telles que les télécommunications, les jeux vidéo et l'électronique industrielle. Lors de la manipulation et du stockage des plaquettes, toute contamination doit être évitée afin de maintenir un rendement élevé. Les FOUP (Front Opening Universal Pods) sont utilisés pour stocker temporairement les plaquettes et les transférer d'une étape de processus à l'autre. Afin de protéger les plaquettes de l'humidité, des particules et de l'oxygène, qui peuvent provoquer une oxydation et réduire la conductivité, les FOUP sont purgés avec de l'azote ultra-pur (UHP) ou de l'air sec propre. Un contrôle précis de ce processus de purge est essentiel pour garantir des performances constantes et une rentabilité optimale.
Exigences de l'application
Les systèmes FOUP, notamment les Overhead Buffer (OHB) et les ports de chargement (Load Ports), jouent un rôle essentiel dans la manipulation des plaquettes. La propreté lors de ces étapes a un impact direct sur le rendement des produits. Le processus de purge doit minimiser les contaminants tout en garantissant un débit de gaz stable et reproductible. Les fournisseurs d'équipements pour semi-conducteurs ont besoin de solutions de régulation de débit précises, adaptées à des conceptions compactes et répondant à des normes de propreté strictes.
Caractéristiques importantes
Caractéristiques importantes
Optimisation des coûts
Conception compacte pour réduire l'encombrement
Procédés de fabrication contrôlés et traçables
Précision et répétabilité pour des performances de purge constantes
Solution adoptée
Les régulateurs de débit massique Bronkhorst sont utilisés pour surveiller et réguler le débit de purge d'azote UHP ou d'air sec propre dans les systèmes FOUP. Les anciennes usines utilisent généralement de l'air sec propre, tandis que les nouvelles usines préfèrent l'azote UHP pour une propreté accrue. Les régulateurs garantissent un débit précis et stable, ce qui est essentiel pour maintenir l'intégrité des wafers et empêcher l'oxydation. En intégrant ces instruments, les fournisseurs d'équipements pour semi-conducteurs peuvent obtenir des performances de purge fiables, optimiser la consommation de gaz et respecter les normes strictes requises dans la fabrication moderne de wafers.
« Bronkhorst nous offre la précision indispensable pour assurer une purge fiable des FOUP. »
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