Stabile und schnelle Gasdurchflussregelung für die Vakuumbeschichtung

Endnutzer von Vakuumbeschichtungsanlagen benötigen ein sehr schnell reagierendes Gasversorgungssystem. Sie optimieren die Prozessbedingungen wie Druck und Gasdurchfluss und überwachen das Ergebnis durch Messung der Schichtdicke während des Beschichtungsprozesses. Während des Prozesses muss ein stabiler, kontrollierter Gasdurchfluss vorhanden sein, damit die Beschichtung die richtige Stärke und Zusammensetzung erhält. 

Wenn das Sputtersystem feststellt, dass die Dicke oder die Transparenz abweicht, korrigiert es den Abscheidungsprozess durch Anpassung der Gasdurchflüsse. Daher ist eine sehr schnelle Durchflussregelung mit einer Reaktionszeit im Bereich von 150 Millisekunden erforderlich. 
 
Der FLEXI-FLOW Compact Durchflussregler erfüllt diese Anforderungen. Sollten Schwankungen des Eingangsdrucks auftreten, hält der Durchflussregler den Durchfluss so stabil wie möglich auf dem Sollwert. Bei Veränderungen in der Reaktorkammer erhält der Durchflussregler einen neuen Sollwert. Eine schnelle Reaktion auf die Änderung der Durchflussrate führt daher zu weniger Abfall und weniger Ausschussprodukten. 

Integrierte Absperrventile
Ein Absperrventil kann integriert werden, um die Leckage zur Vakuumkammer in der Phase des Vakuumierens zu minimieren - besonders nützlich in Ultrahochvakuumreaktoren. 

Großer dynamischer Bereich
Der große dynamische Durchflussbereich mit einem hohen Turndown-Verhältnis von bis zu 1:1000 reduziert die Anzahl der benötigten Modelle und Ersatzteile und erhöht die Flexibilität der Vakuumbeschichtungsanlage. 

Kommunikations-Schnittstellen
Kompakte Mehrkanallösungen sind mit einer Kommunikations-Schnittstelle nach Wahl über ein Gateway erhältlich, das mit Industrieprotokolle wie Ethernet, EtherCAT und Profinet ausgestattet werden kann. Die so gewonnenen Daten können für die vorausschauende Wartung genutzt werden.