Régulation rapide et stable du débit de gaz pour le dépôt sous vide

Les utilisateurs finaux d’équipements de dépôt sous vide ont besoin d’un système d’alimentation en gaz qui réponde très rapidement. Ils optimisent ainsi les conditions du procédé telles que la pression et le débit de gaz, et surveillent le résultat en mesurant l’épaisseur du revêtement durant son application. Au cours du processus, le débit de gaz doit être stable et contrôlé afin de garantir la justesse de l’épaisseur et de la composition du revêtement.

Lorsque le système de pulvérisation observe que l’épaisseur ou la transparence s’éloigne des paramètres souhaités, il corrige le procédé de dépôt en ajustant les débits de gaz. Une régulation de débit très rapide est par conséquent souhaité avec un temps de réponse proche des 150 millisecondes. Le régulateur de débit pour gaz FLEXI-FLOW offre cette rapidité. En cas de variations de la pression d’entrée, le régulateur de débit de gaz maintient le débit au point de réglage de façon aussi réactive que possible. En cas de changements dans la chambre du réacteur, le régulateur de débit définit un nouveau point de réglage. De cette façon, l’adaptation rapide du débit réduit le gaspillage et les quantités de produits rejetés.

Fonction d’arrêt

Une vanne d’arrêt peut être intégrée afin de minimiser les fuites dans la chambre à vide pendant la phase de mise sous vide (ce qui est très utile dans les réacteurs avec des vides poussés).

Large plage dynamique

La large plage de débit dynamique et la rangeabilité de 1 :1000 réduit le nombre d’instruments et limite les références de pièces de rechange améliorant ainsi la flexibilité de l’équipement de dépôt sous vide.

Interfaces de communication

Des solutions multivoies compactes équipé de passerelle (Gateway) sont disponibles faisant appel à des protocoles industriels tels qu’Ethernet, EtherCAT et Profinet. Les données ainsi produites peuvent être utilisées à des fins de maintenance prédictive.