3. Opdamping door reactief sputteren (Vacuum deposition)
“Reactief sputteren is een vacuümopdampingstechniek die wordt gebruikt voor het aanbrengen van coatings tegen reflectie, slijtage, of corrosie etc., of ter verharding van oppervlakken. Massflowregelaars spelen in dit proces een cruciale rol bij de toevoer van gassen.
Het blijkt dat bij deze opdampingstechniek een korte reactietijd van de flowregelaar erg belangrijk is. De nieuwe gasflowregelaar is uitgerust met een sensor die zeer snel kan reageren op wijzigingen van instelpunten (binnen 150 milliseconden). Toepassingen die gebruikmaken van reactief sputteren hebben voordeel van het grote dynamische flowbereik, waardoor gasflows van 0,5 mln/min tot 20 ln/min geregeld kunnen worden. In onze application note lees je alles over de flowinstrumenten die geschikt zijn voor deze toepassing.”